成都磁控溅射钨钛合金靶材定制 来电咨询

钨钛合金靶材采用高纯度原料，通过磁控溅射工艺制备，适用于半导体、光学镀膜等领域。可根据客户需求定制不同成分比例(W/Ti)、尺寸及纯度(99.9%-99.99%)，确保膜层均匀性与附着力。靶材密度≥99.5%，晶粒尺寸均匀，溅射速率稳定。提供材质证明及检测报告，符合SEMI标准。起订量5kg以上，交期15-30天，质保期12个月。建议联系客服获取定制方案与技术参数支持。